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簡要描述：制備方法：層間催化裂解法厚度：~2nm直徑：5~10um純度：98%含氧量：1.44%電導(dǎo)率：~2597 s/cm
產(chǎn)品型號(hào)：ACSMaterial 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-05-07訪 問 量：1540詳細(xì)介紹
制備方法：
層間催化裂解法
厚度：~2nm
直徑：5~10um
純度：98%
含氧量：1.44%
電導(dǎo)率：~2597 s/cm
制備方法：
層間催化裂解法
厚度：~2nm
直徑：5~10um
純度：98%
含氧量：1.44%
電導(dǎo)率：~2597 s/cm
制備方法：
層間催化裂解法
厚度：~2nm
直徑：5~10um
純度：98%
含氧量：1.44%
電導(dǎo)率：~2597 s/cm
制備方法：
層間催化裂解法
厚度：~2nm
直徑：5~10um
純度：98%
含氧量：1.44%
電導(dǎo)率：~2597 s/cm
| 產(chǎn)品名稱 | 厚度 | 直徑 | 規(guī)格 |
| 石墨烯納米片（2~10nm） | 2~10nm | ~5um | 50g/500g |
| 石墨烯納米片（1~2mm） | 1~2mm | 5~10um | 500mg |
| 石墨烯納米片（1~5mm） | 1~5mm | ~5um | 1g/5g/10g |
Typical SEM Image of ACS Material Graphene Nanoplaets (1-2nm)
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